SEARCH:
Сегодня
13 апреля 2026 / Monday / Неделя нечетная
Time tableРасписание
  
    New Tab     

Список публикаций

Количество записей: 121

  1. Antifriction coatings based on a-C for biomedicine applications / Yu. N. Yuriev [et al.] // Journal of Physics: Conference Series. — 2016. — Vol. 669 : Low temperature Plasma in the Processes of Functional Coating Preparation. — [012066, 5 p.]. — URL: http://dx.doi.org/10.1088/1742-6596/669/1/012066

  2. Осаждение антифрикционных покрытий в плазме магнетронного разряда = Deposition of anti-friction coatings in magnetron discharge plasma / Ю. Н. Юрьев [и др.] // Упрочняющие технологии и покрытия. — 2016. — № 4. — [С. 34-38]. — URL: http://elibrary.ru/item.asp?id=25848942

  3. Aluminum films deposition by magnetron sputtering systems:Influence of target state and pulsing unit / D. V. Sidelev [et al.] // Optoelectronics, Photonics, Engineering and Nanostructures, OPEN 2016 : Book of Abstracts 3rd International School and Conference, St Petersburg, Russia, March 28-30, 2016. — 2016. — [P. 571-572]. — URL: http://spbopen.spbau.com/PDF/Book_of_Abstracts_SPBOPEN_2016.pdf#page=571

  4. Evaporation factor in productivity increase of hot target magnetron sputtering systems / G. A. Bleykher (Bleicher) [et al.] // Vacuum. — 2016. — Vol. 132. — [P. 62-69]. — URL: http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2016.07.030

  5. Magnetron sputtering in rigid optical solar reflectors production / O. Kh. Asainov [et al.] // Journal of Physics: Conference Series. — 2016. — Vol. 729 : Conference on Vacuum Technique and Technology. — [012012, 3 p.]. — URL: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/36154

  6. The oxygen-deficient TiO2 films deposited by a dual magnetron sputtering / D. V. Sidelev [et al.] // Vacuum. — 2016. — Vol. 134. — [P. 29-32]. — URL: http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2016.09.007

  7. Aluminum films deposition by magnetron sputtering systems: Influence of target state and pulsing unit / D. V. Sidelev [et al.] // Journal of Physics: Conference Series. — 2016. — Vol. 741 : Optoelectronics, Photonics, Engineering and Nanostructures (Saint Petersburg OPEN 2016). — [012193, 5 p.]. — URL: http://dx.doi.org/10.1088/1742-6596/741/1/012193

  8. Investigation of deposition efficiency increase mechanisms using pulsed magnetron sputteringsystems with hot target / A. O. Borduleva [et al.] // Plasma Physics and Technology Journal. — 2016. — Vol. 3, № 1. — [P. 30]. — URL: http://ppt.fel.cvut.cz/articles/2016/ppt-abstracts-3v1n.pdf#page=19

  9. High-rate magnetron sputtering with hot target / D. V. Sidelev [et al.] // Surface and Coatings Technology. — 2016. — Vol. 308 : The 43rd International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films. — [P. 168-173]. — URL: http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2016.06.096

  10. Magnetron sputtering with hot solid target: thermal processes and erosion / A. O. Borduleva [et al.] // Acta Polytechnica : Journal of Advanced Engineering. — 2016. — Vol. 56, № 6. — [P. 425-431]. — URL: https://doi.org/10.14311/AP.2016.56.0425

  11. Yuriev, Yu. N. Deposition of barrier layers of titanium nitride using dual magnetron / Yu. N. Yuriev, D. V. Sidelev, D. V. Kiseleva // Известия вузов. Физика / Национальный исследовательский Томский государственный университет (ТГУ). — 2015. — V. 58, № 9-3. — [P. 47-50]. — URL: http://elibrary.ru/item.asp?id=25225091

  12. Сиделёв, Д. В. Технологические аспекты нанесения просветляющего слоя низкоэмиссионного покрытия / Д. В. Сиделёв ; науч. рук. Ю. Н. Юрьев // Ресурсоэффективным технологиям - энергию и энтузиазм молодых : Сборник научных трудов V Всероссийской конференции студентов элитного технического образования, г. Томск, 25 -27 марта 2014 г. / Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) . — 2014. — [С. 73-76]. — URL: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/66015

  13. Effect of Magnetic Field Configuration of Dual Magnetron on Carbon Based Films Properties / Yu. N. Yuriev [et al.] // Advanced Materials Research : Scientific Journal. — 2014. — Vol. 1040 : High Technology: Research and Applications 2014 (HTRA 2014). — [P. 721-725]. — URL: http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/AMR.1040.721

  14. Sidelev, D. V. The Reactive Deposition of TiO[x] Thin Films / D. V. Sidelev, Yu. N. Yuriev // Advanced Materials Research : Scientific Journal. — 2014. — Vol. 1040 : High Technology: Research and Applications 2014 (HTRA 2014). — [P. 748-752]. — URL: http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/AMR.1040.748

  15. Сиделёв, Д. В. Оптимизация коэффициента преломления тонких пленок диоксида титана / Д. В. Сиделёв, Ю. Н. Юрьев // Ресурсоэффективным технологиям - энергию и энтузиазм молодых : сборник докладов IV Университетской конференции студентов Элитного технического образования, г. Томск, 24 -27 апреля 2013 г. / Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ). — 2013. — [С. 93-95]. — URL: http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2013/C08/039.pdf

  16. Sidelev, D. V. Optical properties of dioxide titanium thin films / D. V. Sidelev ; sci. adv. Y. N. Yurjev // Современные техника и технологии : сборник трудов XIX международной научно-практической конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, Томск, 15-19 апреля 2013 г. / Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) . — 2013. — Т. 3. — [С. 397-398]. — URL: http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2013/C01/V3/192.pdf

  17. Сиделёв, Д. В. Тонкие пленки диоксида титана как просветляющий слой для низкоэмисионного покрытия = Titanium dioxide thin films as antireflective layer for low-emission coating / Д. В. Сиделёв ; науч. рук. Ю. Н. Юрьев // Перспективы развития фундаментальных наук : сборник научных трудов X Международной конференция студентов и молодых ученых, г. Томск, 23-26 апреля 2013 г. / Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; ред. коллегия Е. А. Вайтулевич ; Г. А. Лямина ; Г. А. Воронова ; М. Е. Семенов ; А. В. Устинов ; Н. С. Пушилина. — 2013. — [С. 1011-1013]. — URL: http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2013/C21/345.pdf

  18. Магнетронное осаждение просветляющих слоев в низкоэмиссионном покрытии типа TiO₂-Cu-TiO₂ / Ю. Н. Юрьев [и др.] // Известия вузов. Физика / Томский государственный университет (ТГУ). — 2013. — Т. 56, № 11/3. — [С. 26-29]. — URL: http://elibrary.ru/item.asp?id=21217987

  19. Sidelev, D. V. Technological features of the dual magnetron sputtering system for reactive deposition of thin film coatings / D. V. Sidelev ; National Research Tomsk Polytechnic University ; науч. рук. Y. N. Yurjev // Modern technique and technologies MTT' 2012 : Proceedings of the 18th international scientific and practical conference of students, post-graduates and young scientists / Tomsk Polytechnic University (TPU). — 2012. — [С. 181-182]. — URL: http://www.lib.tpu.ru/fulltext/v/Conferences/2012/C2/ENG/eng_084.pdf

  20. Сиделёв, Д. В. Технологические особенности дуальной МРС при реактивном осаждении тонких пленок диоксида титана / Д. В. Сиделёв ; науч. рук. Ю. Н. Юрьев // Ресурсоэффективным технологиям - энергию и энтузиазм молодых : сборник докладов III Университетской конференции студентов Элитного технического образования, г. Томск, 16 -17 апреля 2012 г. / Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) . — 2012. — [С. 91-93]. — URL: http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2012/C08/039.pdf

Страницы: 1 2 3 4 5 6 7

2011 © Томский политехнический университет
При полном или частичном использовании текстовых и графических материалов с сайта ссылка на портал ТПУ обязательна