SEARCH:
Сегодня
28 апреля 2024 / Sunday / Неделя четная
Time tableРасписание
  
    New Tab     

Список публикаций

По техническим причинам добавление новых публикаций временно недоступно.

Количество записей: 105

  1. Study on the influence of the magnetron power supply on the properties of the Silicon Nitride films / D. V. Kiseleva [et al.] // Journal of Physics: Conference Series . — 2017 . — Vol. 789 : Low temperature Plasma in the Processes of Functional Coating Preparation . — [012028, 6 p.] . — Title screen. — [References: 10 tit.]..

  2. A comparative study on the properties of chromium coatings deposited by magnetron sputtering with hot and cooled target / D. V. Sidelev [et al.] // Vacuum . — 2017 . — Vol. 143 . — [P. 479-485] . — Title screen. — [References: p. 485 (21 tit.)]. — Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса..

  3. A comparative study on the properties of chromium coatings deposited by agnetron sputtering with hot and cooled cathode / M. Bestetti [et al.] // Energy Fluxes and Radiation Effects (EFRE-2016) International Congress, October 2–7, 2016, Tomsk, Russia: abstracts: / National Research Tomsk Polytechnic University (TPU) ; eds. B. M. Kovalchuk [et al.] . — Tomsk : TPU Publishing House , 2016 . — [P. 338] . — Title screen..

  4. Грудинин, Владислав Алексеевич. Распыление никеля в парамагнитном состоянии / В. А. Грудинин, Д. В. Сиделёв; науч. рук. Д. В. Сиделёв // Высокие технологии в современной науке и технике (ВТСНТ-2016) сборник научных трудов V Международной научно-технической конференции молодых ученых, аспирантов и студентов, г. Томск, 5–7 декабря 2016 г.: / Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. А. Н. Яковлева . — Томск : STT , 2016 . — [С. 68-69] . — Заглавие с титульного экрана. — [Библиогр.: с. 69 (3 наз.)]..

  5. Осаждение антифрикционных покрытий в плазме магнетронного разряда = Deposition of anti-friction coatings in magnetron discharge plasma / Ю. Н. Юрьев [и др.] // Упрочняющие технологии и покрытия . — 2016 . — № 4 . — [С. 34-38] . — Заглавие с экрана. — [Библиогр.: с. 38 (10 назв.)]. — Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса..

  6. Aluminum films deposition by magnetron sputtering systems:Influence of target state and pulsing unit / D. V. Sidelev [et al.] // Optoelectronics, Photonics, Engineering and Nanostructures, OPEN 2016 Book of Abstracts 3rd International School and Conference, St Petersburg, Russia, March 28-30, 2016: . — St Petersburg : Academic University Publishing , 2016 . — [P. 571-572] . — Title screen..

  7. The oxygen-deficient TiO2 films deposited by a dual magnetron sputtering / D. V. Sidelev [et al.] // Vacuum . — 2016 . — Vol. 134 . — [P. 29-32] . — Title screen. — [References: 28 tit.]. — Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса..

  8. Evaporation factor in productivity increase of hot target magnetron sputtering systems / G. A. Bleykher (Bleicher) [et al.] // Vacuum . — 2016 . — Vol. 132 . — [P. 62-69] . — Title screen. — [References: p. 68-69 (24 tit.)]. — Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса..

  9. Aluminum films deposition by magnetron sputtering systems: Influence of target state and pulsing unit / D. V. Sidelev [et al.] // Journal of Physics: Conference Series [Electronic resource ]. — 2016 . — Vol. 741 : Optoelectronics, Photonics, Engineering and Nanostructures (Saint Petersburg OPEN 2016) . — [012193, 5 p.] . — Title screen. — [References: 13 tit.]..

  10. Investigation of deposition efficiency increase mechanisms using pulsed magnetron sputteringsystems with hot target / A. O. Borduleva [et al.] // Plasma Physics and Technology Journal . — 2016 . — Vol. 3, № 1 . — [P. 30] . — Title screen..

  11. High-rate magnetron sputtering with hot target / D. V. Sidelev [et al.] // Surface and Coatings Technology . — 2016 . — Vol. 308 : The 43rd International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films . — [P. 168-173] . — Title screen. — [References: 35 tit.]. — Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса..

  12. Magnetron sputtering in rigid optical solar reflectors production / O. Kh. Asainov [et al.] // Journal of Physics: Conference Series [Electronic resource ]. — 2016 . — Vol. 729 : Conference on Vacuum Technique and Technology . — [012012, 3 p.] . — Title screen. — [References: 4 tit.]..

  13. Magnetron sputtering with hot solid target: thermal processes and erosion / A. O. Borduleva [et al.] // Acta Polytechnica Journal of Advanced Engineering: . — 2016 . — Vol. 56, № 6 . — [P. 425-431] . — Title screen..

  14. Antifriction coatings based on a-C for biomedicine applications / Yu. N. Yuriev [et al.] // Journal of Physics: Conference Series . — 2016 . — Vol. 669 : Low temperature Plasma in the Processes of Functional Coating Preparation . — [012066, 5 p.] . — Title screen. — [References: 10 tit.]..

  15. Yuriev, Yuri Nikolaevich. Deposition of barrier layers of titanium nitride using dual magnetron / Yu. N. Yuriev, D. V. Sidelev, D. V. Kiseleva // Известия вузов. Физика / Национальный исследовательский Томский государственный университет (ТГУ) . — 2015 . — V. 58, № 9-3 . — [P. 47-50] . — Title screen. — [References: p. 50 (13 tit.)]. — Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса..

  16. Сиделёв, Дмитрий Владимирович. Технологические аспекты нанесения просветляющего слоя низкоэмиссионного покрытия / Д. В. Сиделёв; науч. рук. Ю. Н. Юрьев // Ресурсоэффективным технологиям - энергию и энтузиазм молодых Сборник научных трудов V Всероссийской конференции студентов элитного технического образования, г. Томск, 25 -27 марта 2014 г.: / Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) . — Томск : Изд-во ТПУ , 2014 . — [С. 73-76] . — Заглавие с титульного экрана. — [Библиогр.: с. 76 (7 назв.)]. — Adobe Reader..

  17. Effect of Magnetic Field Configuration of Dual Magnetron on Carbon Based Films Properties / Yu. N. Yuriev [et al.] // Advanced Materials Research Scientific Journal: . — 2014 . — Vol. 1040 : High Technology: Research and Applications 2014 (HTRA 2014) . — [P. 721-725] . — Title screen. — Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса..

  18. Sidelev, Dmitry Vladimirovich. The Reactive Deposition of TiO[x] Thin Films / D. V. Sidelev, Yu. N. Yuriev // Advanced Materials Research Scientific Journal: . — 2014 . — Vol. 1040 : High Technology: Research and Applications 2014 (HTRA 2014) . — [P. 748-752] . — Title screen. — Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса..

  19. Sidelev, Dmitry Vladimirovich. Optical properties of dioxide titanium thin films [Electronic resource] / D. V. Sidelev; sci. adv. Y. N. Yurjev // Современные техника и технологии сборник трудов XIX международной научно-практической конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, Томск, 15-19 апреля 2013 г.: в 3 т.: / Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) . — 2013 . — Т. 3 . — [С. 397-398] . — Заглавие с титульного экрана. — [Библиогр.: с. 398 (12 назв.)]. — Adobe Reader..

  20. Сиделёв, Дмитрий Владимирович. Оптимизация коэффициента преломления тонких пленок диоксида титана / Д. В. Сиделёв, Ю. Н. Юрьев // Ресурсоэффективным технологиям - энергию и энтузиазм молодых сборник докладов IV Университетской конференции студентов Элитного технического образования, г. Томск, 24 -27 апреля 2013 г.: / Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) . — Томск : Изд-во ТПУ , 2013 . — [С. 93-95] . — Заглавие с титульного листа. — [Библиогр.: с. 95 (6назв.)]. — Adobe Reader..

Страницы: 1 2 3 4 5 6

2011 © Томский политехнический университет
При полном или частичном использовании текстовых и графических материалов с сайта ссылка на портал ТПУ обязательна