|
Физические основы плазменных технологий (аннотация
дисциплины) |
|
|
Направление |
210100 – электроника и
наноэлектроника |
|
Кафедра |
Сильноточной электроники |
|
Преподаватель |
Коваль Николай Николаевич, профессор, д.т.н. |
|
Телефон |
(3822)
49-27-92 |
|
E-mail |
|
|
Цель |
Формирование
целостного представления об ЭИПТ - основных процессах, происходящих при
взаимодействии плазмы и ускоренных потоков заряженных частиц с веществом,
использовании этих процессов в технологии, о назначении, принципах
функционирования, о современном уровне и тенденциях развития ЭИПТ,
ЭИП-оборудовании. |
|
Содержание |
Общая
характеристика ЭИП методов обработки материалов и изделий, особенности и
основные преимущества ЭИПТ, основные процессы взаимодействия электронов,
ионов и плазмы с веществом, использование в технологии физических процессов
бомбардировки вещества электронными, ионными и плазменными потоками,
промышленные процессы пучковой и плазменной технологий, принципы конструкции
и характеристики ЭИП оборудования, тенденции ЭИПТ. |
|
Курс |
2 (3 семестр – экзамен) |
|
Всего
часов, в том числе: |
96 |
|
лекций |
8 |
|
лабораторных |
8 |
|
практик |
16 |
|
самостоятельная
работа |
64 |