SEARCH:
  
    New Tab     

Список публикаций

Количество записей: 112

  1. Surface erosion of hot Cr target and deposition rates of Cr coatings in high power pulsed magnetron sputtering / G. A. Bleykher (Bleicher) [et al.] // Surface and Coatings Technology. — 2018. — Vol. 354. — [P. 161-168]. — URL: https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2018.09.030

  2. The role of thermal processes and target evaporation in formation of self-sputtering mode for copper magnetron sputtering / G. A. Bleykher (Bleicher) [et al.] // Vacuum. — 2018. — Vol. 152. — [P. 156-165]. — URL: https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2018.03.020

  3. Hot target magnetron sputtering for ferromagnetic films deposition / D. V. Sidelev [et al.] // Surface and Coatings Technology. — 2018. — Vol. 334. — [P. 61-70]. — URL: https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2017.11.024

  4. Peculiarities of metal coatings deposition using magnetron sputtering systems with hot and evaporative targets / G. A. Bleykher (Bleicher) [et al.] // Journal of Physics: Conference Series. — 2018. — Vol. 1115 : 6th International Congress "Energy Fluxes and Radiation Effects". 14th International Conference on Modification of Materials with Particle Beams and Plasma Flows (14th CMM). — [032065, 6 p.]. — URL: https://doi.org/10.1088/1742-6596/1115/3/032065

  5. Sidelev, D. V. Operation parameters of magnetron diode for high-rate deposition of aluminum films / D. V. Sidelev, V. A. Grudinin // Journal of Physics: Conference Series. — 2018. — Vol. 1115 : 6th International Congress "Energy Fluxes and Radiation Effects". 14th International Conference on Modification of Materials with Particle Beams and Plasma Flows (14th CMM). — [032020, 5 p.]. — URL: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/57378

  6. Сиделёв, Д. В. Осаждение покрытий из хрома и никеля с помощью магнетронного диода с "горячей" мишенью : диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук / Д. В. Сиделёв ; Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; науч. рук. В. П. КривобоковТомск : [Б. и.], 2018. — 138 л. : ил.

  7. Сиделёв, Д. В. Осаждение покрытий из хрома и никеля с помощью магнетронного диода с "горячей" мишенью : автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук / Д. В. Сиделёв ; Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; науч. рук. В. П. КривобоковТомск : [Б. и.], 2018. — 22 с. : ил.

  8. A comparative study on the properties of chromium coatings deposited by magnetron sputtering with hot and cooled target / D. V. Sidelev [et al.] // Vacuum. — 2017. — Vol. 143. — [P. 479-485]. — URL: https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2017.03.020

  9. Study on the influence of the magnetron power supply on the properties of the Silicon Nitride films / D. V. Kiseleva [et al.] // URL: http://dx.doi.org/10.1088/1742-6596/789/1/012028

  10. Investigation of deposition efficiency increase mechanisms using pulsed magnetron sputteringsystems with hot target / A. O. Borduleva [et al.] // Plasma Physics and Technology Journal. — 2016. — Vol. 3, № 1. — [P. 30]. — URL: http://ppt.fel.cvut.cz/articles/2016/ppt-abstracts-3v1n.pdf#page=19

  11. High-rate magnetron sputtering with hot target / D. V. Sidelev [et al.] // Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса. — URL: http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2016.06.096

  12. Magnetron sputtering with hot solid target: thermal processes and erosion / A. O. Borduleva [et al.] // Acta Polytechnica : Journal of Advanced Engineering. — 2016. — Vol. 56, № 6. — [P. 425-431]. — URL: https://doi.org/10.14311/AP.2016.56.0425

  13. Aluminum films deposition by magnetron sputtering systems: Influence of target state and pulsing unit / D. V. Sidelev [et al.] // Journal of Physics: Conference Series. — 2016. — Vol. 741 : Optoelectronics, Photonics, Engineering and Nanostructures (Saint Petersburg OPEN 2016). — [012193, 5 p.]. — , . — URL: http://dx.doi.org/10.1088/1742-6596/741/1/012193

  14. Antifriction coatings based on a-C for biomedicine applications / Yu. N. Yuriev [et al.] // URL: http://dx.doi.org/10.1088/1742-6596/669/1/012066

  15. Грудинин, В. А. Распыление никеля в парамагнитном состоянии / В. А. Грудинин, Д. В. Сиделёв ; науч. рук. Д. В. Сиделёв // Высокие технологии в современной науке и технике (ВТСНТ-2016) : сборник научных трудов V Международной научно-технической конференции молодых ученых, аспирантов и студентов, г. Томск, 5–7 декабря 2016 г. / Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. А. Н. Яковлева. — 2016. — Высокие технологии в современной науке и технике (ВТСНТ-2016). — [С. 68-69]. — URL: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/36422

  16. Magnetron sputtering in rigid optical solar reflectors production / O. Kh. Asainov [et al.] // Journal of Physics: Conference Series. — 2016. — Vol. 729 : Conference on Vacuum Technique and Technology. — [012012, 3 p.]. — , . — URL: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/36154

  17. Aluminum films deposition by magnetron sputtering systems:Influence of target state and pulsing unit / D. V. Sidelev [et al.] // URL: http://spbopen.spbau.com/PDF/Book_of_Abstracts_SPBOPEN_2016.pdf#page=571

  18. Effect of Magnetic Field Configuration of Dual Magnetron on Carbon Based Films Properties / Yu. N. Yuriev [et al.] // Advanced Materials Research : Scientific Journal. — 2014. — Vol. 1040 : High Technology: Research and Applications 2014 (HTRA 2014). — [P. 721-725]. — URL: http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/AMR.1040.721

  19. Sidelev, D. V. The Reactive Deposition of TiO[x] Thin Films / D. V. Sidelev, Yu. N. Yuriev // Advanced Materials Research : Scientific Journal. — 2014. — Vol. 1040 : High Technology: Research and Applications 2014 (HTRA 2014). — [P. 748-752]. — URL: http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/AMR.1040.748

  20. Сиделёв, Д. В. Технологические аспекты нанесения просветляющего слоя низкоэмиссионного покрытия / Д. В. Сиделёв ; науч. рук. Ю. Н. Юрьев // Ресурсоэффективным технологиям - энергию и энтузиазм молодых : Сборник научных трудов V Всероссийской конференции студентов элитного технического образования, г. Томск, 25 -27 марта 2014 г. / Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) . — 2014. — Ресурсоэффективным технологиям - энергию и энтузиазм молодых . — [С. 73-76]. — URL: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/66015

Страницы: 1 2 3 4 5 6

GENERAL CONTACT DETAILS:
Tomsk Polytechnic University
30, Lenin Avenue, Tomsk, 634050, Russia
UNIVERSITY OFFICE:
Office 127, 30, Lenin Avenue, Tomsk, 634050, Russia
Telephone: +7(3822) 56-34-70, Fax: +7(3822) 56-38-65
E-mail: tpu@tpu.ru
PORTAL SOLUTIONS DEPARTMENT:
Office 125, 4a, Usov Str., Tomsk, 634050, Russia
Tel./fax: +7(3822) 70-50-85
E-mail: webmaster@tpu.ru
2016 © Tomsk Polytechnic University