Влияние самораспыления на скорости осаждения медных покрытий при работе магнетрона с испаряющейся мишенью / В. А. Грудинин [и др.] // Перспективные материалы конструкционного и медицинского назначения : сборник трудов Международной научно-технической молодежной конференции, г. Томск, 26–30 ноября 2018 г. / Национальный исследовательский Томский политехнический университет, Инженерная школа новых производственных технологий ; Российский фонд фундаментальных исследований ; под ред. С. Н. Кулькова [и др.]. — 2018. — [С. 284-285]. — URL: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/51924
Грудинин, В. А. Сильноточное магнетронное распыление Al мишени / В. А. Грудинин, Д. В. Сиделёв // Перспективные материалы конструкционного и медицинского назначения : сборник трудов Международной научно-технической молодежной конференции, г. Томск, 26–30 ноября 2018 г. / Национальный исследовательский Томский политехнический университет, Инженерная школа новых производственных технологий ; Российский фонд фундаментальных исследований ; под ред. С. Н. Кулькова [и др.]. — 2018. — [С. 286-287]. — URL: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/51925
Hot target magnetron sputtering for ferromagnetic films deposition / D. V. Sidelev [et al.] // Surface and Coatings Technology. — 2018. — Vol. 334. — [P. 61-70]. — URL: https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2017.11.024
The role of thermal processes and target evaporation in formation of self-sputtering mode for copper magnetron sputtering / G. A. Bleykher (Bleicher) [et al.] // Vacuum. — 2018. — Vol. 152. — [P. 156-165]. — URL: https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2018.03.020
Surface erosion of hot Cr target and deposition rates of Cr coatings in high power pulsed magnetron sputtering / G. A. Bleykher (Bleicher) [et al.] // Surface and Coatings Technology. — 2018. — Vol. 354. — [P. 161-168]. — URL: https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2018.09.030
Sidelev, D. V. Angular thickness distribution and target utilization for hot Ni target magnetron sputtering / D. V. Sidelev, V. P. Krivobokov // Vacuum. — 2018. — Vol. 160. — [P. 418-420]. — URL: https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2018.12.001
Deposition of Cr films by hot target magnetron sputtering on biased substrates / D. V. Sidelev [et al.] // Surface and Coatings Technology. — 2018. — Vol. 350. — [P. 560-568]. — URL: https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2018.07.047
Peculiarities of metal coatings deposition using magnetron sputtering systems with hot and evaporative targets / G. A. Bleykher (Bleicher) [et al.] // Journal of Physics: Conference Series. — 2018. — Vol. 1115 : 6th International Congress "Energy Fluxes and Radiation Effects". 14th International Conference on Modification of Materials with Particle Beams and Plasma Flows (14th CMM). — [032065, 6 p.]. — URL: https://doi.org/10.1088/1742-6596/1115/3/032065
Sidelev, D. V. Operation parameters of magnetron diode for high-rate deposition of aluminum films / D. V. Sidelev, V. A. Grudinin // Journal of Physics: Conference Series. — 2018. — Vol. 1115 : 6th International Congress "Energy Fluxes and Radiation Effects". 14th International Conference on Modification of Materials with Particle Beams and Plasma Flows (14th CMM). — [032020, 5 p.]. — URL: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/57378
Study on the influence of the magnetron power supply on the properties of the Silicon Nitride films / D. V. Kiseleva [et al.] // URL: http://dx.doi.org/10.1088/1742-6596/789/1/012028
A comparative study on the properties of chromium coatings deposited by magnetron sputtering with hot and cooled target / D. V. Sidelev [et al.] // Vacuum. — 2017. — Vol. 143. — [P. 479-485]. — URL: https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2017.03.020
Грудинин, В. А. Распыление никеля в парамагнитном состоянии / В. А. Грудинин, Д. В. Сиделёв ; науч. рук. Д. В. Сиделёв // Высокие технологии в современной науке и технике (ВТСНТ-2016) : сборник научных трудов V Международной научно-технической конференции молодых ученых, аспирантов и студентов, г. Томск, 5–7 декабря 2016 г. / Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. А. Н. Яковлева. — 2016. — [С. 68-69]. — URL: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/36422
Antifriction coatings based on a-C for biomedicine applications / Yu. N. Yuriev [et al.] // URL: http://dx.doi.org/10.1088/1742-6596/669/1/012066
Осаждение антифрикционных покрытий в плазме магнетронного разряда = Deposition of anti-friction coatings in magnetron discharge plasma / Ю. Н. Юрьев [и др.] // Упрочняющие технологии и покрытия. — 2016. — № 4. — [С. 34-38]. — URL: http://elibrary.ru/item.asp?id=25848942
Aluminum films deposition by magnetron sputtering systems:Influence of target state and pulsing unit / D. V. Sidelev [et al.] // URL: http://spbopen.spbau.com/PDF/Book_of_Abstracts_SPBOPEN_2016.pdf#page=571
Evaporation factor in productivity increase of hot target magnetron sputtering systems / G. A. Bleykher (Bleicher) [et al.] // Vacuum. — 2016. — Vol. 132. — [P. 62-69]. — URL: http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2016.07.030
Magnetron sputtering in rigid optical solar reflectors production / O. Kh. Asainov [et al.] // Journal of Physics: Conference Series. — 2016. — Vol. 729 : Conference on Vacuum Technique and Technology. — [012012, 3 p.]. — , . — URL: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/36154
The oxygen-deficient TiO2 films deposited by a dual magnetron sputtering / D. V. Sidelev [et al.] // Vacuum. — 2016. — Vol. 134. — [P. 29-32]. — URL: http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2016.09.007
Aluminum films deposition by magnetron sputtering systems: Influence of target state and pulsing unit / D. V. Sidelev [et al.] // Journal of Physics: Conference Series. — 2016. — Vol. 741 : Optoelectronics, Photonics, Engineering and Nanostructures (Saint Petersburg OPEN 2016). — [012193, 5 p.]. — , . — URL: http://dx.doi.org/10.1088/1742-6596/741/1/012193
Investigation of deposition efficiency increase mechanisms using pulsed magnetron sputteringsystems with hot target / A. O. Borduleva [et al.] // Plasma Physics and Technology Journal. — 2016. — Vol. 3, № 1. — [P. 30]. — URL: http://ppt.fel.cvut.cz/articles/2016/ppt-abstracts-3v1n.pdf#page=19
