ОСНОВНЫЕ РАЗДЕЛЫ:

<< Вернуться к списку

  
    Комплексная установка для ионной и плазменной обработки материалов     

Состав и технические характеристики:
ЭДИ с ПФ Источник ионов "Радуга–5"
Ток разряда, А 400-300 Ток пучка ионов, А до 2
Степень снижения МКФ (Ti) 102–104 Ускоряющее напряжение, кВ до 40
Эффективность прохождения плазменного потока (Ti), % до 50 Длительность/
частота импульса ускоряющего напряжения, мкс/c-1
400/
до 200
Скорость нанесения покрытий, мкм/ч до 20
Количество, шт. 4–8
Генератор газовой плазмы ПИНК Высокочастотный, короткоимпульсный генератор напряжения смещения
Концентрация плазмы, см-3 1010 Амплитуда импульсов, кВ 0-4
Ток разряда, А 5–200 Частота следования и длительность импульсов, с-1/ мкс до 105
/ 1–9
Плотность тока ионов из плазмы, мА/см2 1–10 Ток в источнике, А до 20
Количество, шт. 1-3 Коэффициент заполнения импульсов до 0,9
Среднечастотный дуальный магнетрон Вакуумный пост
Размеры мишеней, м 0,8/1/0,1 Объем вакуумной камеры, м3 0,6
Напряжение разряда, кВ 0,35–1 Остаточное давление, Па 6,5∙10-3
Ток разряда, А 1–30 Число позиций в планетарном механизме, шт. 16
Частота генерации разряда, с-1 4∙104